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飛秒激光刻蝕機

太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕機

太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕機，采用飛秒激光刻蝕設備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉等導電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細線寬激光刻蝕、劃線、刻槽。

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太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕機，采用飛秒激光刻蝕設備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉、銅、鋁等導電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細線寬激光刻蝕、劃線、刻槽。

同時，適用于其他多層材料超細線寬激光刻蝕加工，如不銹鋼網上的PI膜刻蝕、玻璃基材上PI膜刻蝕、不銹鋼光柵劃線等應用。

設備簡介

設備采用固體激光器，激光波長1030nm，適合對導電玻璃與鍍層進行精細刻線；采用自主研發的控制軟件、直接導入CAD 數據進行激光刻蝕，操作簡單，方便快捷；通過軟件實時調節振鏡與直線電機、電動升降工作臺的設計，加上真空吸附托盤裝置，能有效地解決激光刻蝕機在加工運行中的平穩性；采用獨特除塵系統設計，能保證玻璃與工作平面的清潔，保證激光刻蝕過程中無殘留。

設備集數控技術、激光技術、軟件技術等光機電高技術于一體，具有高靈活性、高精度、高速度等先進制造技術的特征。可大范圍內進行各種圖案，各種尺寸的精密、高速刻蝕，并且能夠保證很高的產能，是一個可靠、穩定和具有高性能價格比的產品。

適用行業

玻璃、硅片、陶瓷、PET薄膜等基底上鍍膜激光刻蝕，常用于觸摸屏、光伏太陽能電池、電致色玻璃、調光玻璃、發光玻璃、其它顯示屏等行業激光刻蝕加工。

整體說明

主要構成：激光器、光路系統、運動系統、控制系統、定位系統、抽塵系統、真吸附空系統等組成。

主要技術參數

型號	ET1260-FF鈣鈦礦電池激光刻蝕機
激光器	飛秒、皮秒激光器，波長1030nm/532nm	納秒激光器，波長1064nm
加工幅面	1200600mm/600500mm/500*400mm（可定制加工幅面）
聚焦光斑	＜10μm	＜20μm
激光器頻率調節范圍	20-5000KHz	100-500KHz
刻蝕最小線寬	＜10 um	＜20μm
	（最大可以去除95%以上的氧化物鍍層）
整機精度	±15μm	±20μm
最小線間距	＜10μm	＜20μm
工作臺定位精度	±2um
工作臺重復精度	±1um
CCD自動定位精度	±2um
刻蝕速度	＜4000mm/s
設備尺寸	1950mmL×1700mmW×1960mmH（根據實際尺寸而定）
設備重量	3500kg
功率消耗	＜3000W
可處理文件格式	標準CAD2004版DXF文件